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重慶三安半導體碳化硅襯底項目B1棟封頂

近日,重慶三安半導體碳化硅(SiC)襯底項目B1棟順利封頂。此項目總體分為兩個項目標段,總面積約5.8萬㎡,項目于2023年11月15日正式進場施工。

其中,重慶三安半導體SiC襯底項目(生活服務設施區(qū))總建筑面積為2.08萬㎡,包括B1、B2棟、B3棟和B4棟等建筑。安意法半導體8英寸SiC外延、芯片項目(生活服務設施區(qū))總建筑面積為3.7萬㎡,包括A1棟、A2棟、A3棟、A4棟和C1棟等建筑。

在B1棟順利封頂后,該項目B2、B4、C1三棟也將在年前陸續(xù)封頂,項目整體將在2024年7月前實現(xiàn)全部交付,合同工期僅為8個月。

圖片來源:湖南六建華西公司

據(jù)悉,該項目業(yè)主方為重慶三安半導體有限責任公司和安意法半導體有限公司,這兩家公司均為湖南三安為推進與意法半導體的SiC合資項目而在2023年設立的子公司。

2023年6月,意法半導體官宣將與三安光電成立一家合資制造廠,進行8英寸SiC器件大規(guī)模量產(chǎn)。該合資廠全部建設總額預計約32億美元(約230億人民幣),占地462畝,總建筑面積26.5萬平方米,采取一次建設分期投產(chǎn)方式,規(guī)劃達產(chǎn)年生產(chǎn)能力為8英寸SiC車規(guī)級MOSFET功率芯片48萬片。項目在取得各項手續(xù)批復后開始建設,預計2025年完成階段性建設并逐步投產(chǎn),2028年達產(chǎn)。

意法半導體官網(wǎng)資料顯示,該合資廠將采用意法半導體SiC專利制造工藝技術,專注于為意法半導體生產(chǎn)SiC器件。三安光電也披露,該工廠制造的SiC外延、芯片將獨家銷售給意法半導體或其指定的任何實體。

為主導該合資項目實施,湖南三安半導體有限責任公司和意法半導體(中國)投資有限公司于2023年8月共同出資成立安意法半導體有限公司,注冊資金6.12億美元,雙方持股比例分別為51%、49%。

為滿足該合資廠的襯底需求,三安光電也將利用自有SiC襯底工藝,單獨建造和運營一個新的8英寸SiC襯底制造廠,規(guī)劃總投資70億人民幣,占地276畝,采取一次建設分期投產(chǎn)方式,規(guī)劃達產(chǎn)年生產(chǎn)能力為8英寸SiC襯底48萬片,合資公司將與湖南三安簽訂長期SiC襯底供應協(xié)議。

為推進SiC襯底制造廠項目實施,湖南三安半導體有限責任公司于2023年7月全資設立重慶三安半導體有限責任公司,注冊資本18億人民幣。(來源:集邦化合物半導體 Zac)

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